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2026中国MLCC行业年会 诺泽与您相约广州 | 浆料分散工艺突破,超高压微射流技术

2026年04月20日 09:45:56来源:诺泽流体科技(上海)有限公司

 


 


  由中国电子元件行业协会主办的2026年中国陶瓷电容器及材料大会暨中国MLCC行业年会将于4月24日在广州隆重举行。
 
  作为MLCC浆料纳米分散工艺解决方案优质提供商,诺泽流体科技受邀在当天进行《诺泽超高压分散在MLCC行业中的技术突破与发展》技术工艺专题分享同时携相关设备亮相 B 展位,集中展示微射流均质设备及最新应用工艺诚邀业界同仁莅临参观、交流指导!
 

   活动安排
 
  会议、展览时间:2026年4月24日
 
  报到地点:广州黄埔君澜酒店大堂
 
  公司简介

 
  诺泽流体科技(上海)有限公司成立于2012年,是一家专注于纳微米颗粒制备与处理设备的国家高新技术企业、上海市科技小巨人与“专精特新”企业。公司集技术研发、生产制造、全球销售与服务于一体,凭借十余年深耕,已发展成为跨行业、全球化的微纳米技术系统解决方案提供商,服务网络遍及中国大陆、港澳台地区、南美、北美、东亚,南亚,中东,欧洲等诸多国家。
 
 

 

  公司核心产品包括超微粉气流粉碎机、微射流均质机、密闭隔离系统、脂质体挤出器、混粉机等,经过不断的努力与创新,公司获得多项发明专利和多项上海高新技术成果转化,相关技术荣获上海市科学技术进步奖,多次入选上海市高新技术成果转化项目百佳,产品赢得海内外行业客户广泛认可,技术实力与市场口碑表现良好。
 
 

 

  诺泽流体自2012年起,长期深耕国内微射流均质机领域,尤其在中大型规模化微射流均质分散生产系统搭建及连续化作业方面经验丰富,具备显著应用优势,深受行业认可。
 
 

 

  公司建有符合GMP标准的净化车间及微纳米卓越技术实验中心,提供从实验型到大型生产不同阶段需求的设备及技术解决方案。在MLCC行业,诺泽流体已成为诸多行业头部企业的关键工艺合作伙伴。
 
 
  设备与应用工艺
 
  MLCC浆料处理问题
 
 

 

  多层陶瓷贴片电容器(MLCC)作为电子产品的“血液”,在现代电子工业中扮演着不可替代的角色。随着AI服务器、新能源汽车等新兴领域的快速发展,MLCC行业对高性能、高可靠性的需求日益提升。通过技术创新有效提升产品性能与一致性,成为MLCC浆料处理的关键突破口。
 
 

 

  MLCC浆料常见问题有颗粒团聚问题、粒径分布不均、批次稳定性差和金属粉体难分散等,解决MLCC浆料难点问题的关键技术方向在于优化浆料配方和改进分散工艺。
 
 

 



    超高压微射流纳米分散技术
 
  超高压微射流纳米分散技术是近年来在MLCC浆料处理中展现出色性能的新型分散方法。
 
  工作原理:浆料以很高压力(如30000psi,约2068bar)通过微米级喷嘴,以亚音速撞击在特制的金刚石乳化腔,瞬间经历很强的剪切力、高速撞击和空穴效应等多重力的作用,从而得到足够小而均一的粒径分布。
 
 

 

  与砂磨机、球磨机等传统分散设备相比,微射流超高压均质机具有5大技术优势
 
  分散效果好能快速高效实现真正的纳米级分散,颗粒分布均匀,极大提升MLCC产品性能;
 
  批次一致性好超压输送系统和固定几何结构的金刚石微通道,确保物料在连续多批次处理中达到高度一致的纳米分散效果,为MLCC大规模高效生产提供产业支撑;
 
  污染风险低无研磨介质磨损,少外来污染;
 
  操作控制精确智能控制系统,实时监控;
 
  生产效率高连续式处理流程,无需频繁停机清洗,大大提高了生产效率;
 
 

 

  国产微射流均质机行业应用
 
  随着国内科技创新技术发展,国产微射流均质机领域已取得明显进步。
 
  国产微射流均质机不仅在技术指标上与国际先进水平看齐,更在性价比、本地化服务和定制化解决方案方面展现出明显优势,已成为国内MLCC头部企业的理想合作伙伴之一,优质日韩平替。
 
 

 

  诺泽流体15年如一日,始终专注于微纳米技术应用领域,在国内微射流均质机市场占据优地位,系列最小处理量1ml起,生产型可达1000L/H,成功建成多个超大规模微射流均质分散产线。
 
  实验型 仅需1ml起  生产型 可达1000L/H
 
 

 

  诺泽流体科技微射流超高压均质机在MLCC浆料处理中的具体应用常见的有:
 
  钛酸钡陶瓷浆料的分散:
 
  通过超高压均质处理,使浆料分散性极大改善,颗粒细化至纳米级且分布均匀,显著提升了MLCC产品的电容量。
 
 

 

  贵金属电极浆料的均质化处理:
 
  有效解决金属粉体难分散、大颗粒难去除的问题,满足高容产品对导电浆料的需求。
 
 

 

  PVB胶黏剂均质分散:
 
  破坏PVB高分子链的缠结与团块,实现分子级的高效溶解与均质化,确保粘结剂体系具备成膜一致性与流平性,为MLCC生坯的力学强度与加工性能提供核心保障。
 
  CMP抛光液分散:
 
  通过超高压均质处理,将研磨颗粒(如二氧化硅、氧化铈)精准细化至目标粒径并实现单分散分布,获得高稳定性、高平坦化效率与低划伤缺陷率的尖端CMP抛光液。
 
 

 

  多类实际应用案例表明,使用诺泽微射流均质机处理后,MLCC浆料的粒度显著下降,产品平均电容量明显提高,充分体现了该技术在提升MLCC产品性能方面的价值。
 
 

 

  微射流超高压均质技术已成为推动MLCC产业升级的核心工艺,其通过实现浆料的纳米级精密分散,为产品迈向薄层化、高容化提供了关键支撑。
 
  国产装备在这一领域的成熟与崛起,不仅突破了技术壁垒,更构筑了本土产业链的核心竞争力,正助力中国电子制造在全球舞台上实现新一轮跨越。
 
  诺泽期待与各位行业同仁深入共探精密分散技术的发展,为产业创新注入新动能!
关键词:气流粉碎机,微射流均质机
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